NMOS 由栅极(gate)、源极(source)、漏极(drain)和 MOSFET 衬底(substrate、body)构成。以上部分组成了两个 pn 结(源极-衬底结和漏极衬底结),但它们始终保持反向偏压。栅极和衬底之间有氧化层隔断。

栅极

栅极,顾名思义,是一个起控制作用的部分。在栅极不走电流,因此 NMOS 也被称作绝缘栅场效应管。栅极、氧化物层以及衬底构成了类似电容器的结构,叫 MOS 电容器。

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源极

在 NMOS 中,源极和漏极的构成完全相同,使他们形成区别的是在结构上设计的电路。在栅极施加电压的时候,电子从源极向漏极传导以形成电流。

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漏极

在 NMOS 导通的时候,电流从漏极传输到源极,漏极是电子离开 NMOS 的地方

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MOSFET 衬底

用以形成沟道和 PN 结的部分。通常接地,电压为 0V。

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除此之外,还有 形成的用于隔离各个 MOSFET 的结构。