基区电导调制效应指的是,当 较大时,发射极向集电极大量注入少子,从而引起了基极多子累积 (并维持与少子有相同的浓度梯度),使得基极电阻率下降,电导率上升。

这是导致 IC 在高 下降低的另一个效应。

  1. 在高水平的电子注入下,基极中的空穴浓度必须通过热生成而增加,以保持电荷中性(指电流连续性)。
  2. 此外,注入的电子会增加 BC 结基极侧的负空间电荷。这减少了耗尽宽度并增加了准中性基极宽度

从上图可以看出,当大注入的时候,BC 结中基区的耗尽区的电子浓度更高,由此耗尽区宽度减小,基区准中性宽度增加;而集电极的耗尽区空穴浓度降低,由此需要更宽的耗尽区。

基极古梅尔数计算式

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(1) 和 (2) 都增加了基极古梅尔数并降低了