纳米压印光刻技术

纳米压印光刻技术是一种基于模具表面形貌转移的高分辨率光刻技术。

NIL 利用压印模具的表面形貌来产生微纳米级的图形。压印模具的表面通常是由硅等材料制成的，可以在其表面上制造出需要的结构形貌，然后通过压印技术将这些结构转移到光刻胶层，最终形成需要的微纳米级结构。