MOCVD 的基本反应动力学

MOCVD（金属有机化学气相沉积）的基本反应动力学通常由以下几个步骤组成：

1. 金属有机前体进入气相，经过热解或裂解分解为金属和有机物分子。
2. 金属原子被激发并与气相中的反应物相互作用，形成气相金属化合物的中间体。
3. 中间体被输运到衬底表面，并在表面上发生反应，从而沉积金属化合物薄膜。
4. 反应产物在表面上扩散和重新排列，形成所需的晶体结构。

MOCVD 的运输限制增长

增长率公式

为常数； 为活化能； 为气体常数； 为温度。

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生长速率对温度的依赖性很小。