LPCVD 和 CVD 的主要区别在于质量输运速度与表面反应速度的比值。
在 LPCVD 过程中，当压力降低时，气体的扩散与压力的倒数成正比。LPCVD 的压力通常在 10- 1000pa 左右，而标准大气压力为 101, 325 Pa。如果压力从大气压降低到 100pa 左右，扩散将减少近 1000。质量输运速度的降低导致了更好的均匀性和同质性。典型温度为 600ºC
LPCVD 和 CVD 的主要区别在于质量输运速度与表面反应速度的比值。
在 LPCVD 过程中，当压力降低时，气体的扩散与压力的倒数成正比。LPCVD 的压力通常在 10- 1000pa 左右，而标准大气压力为 101, 325 Pa。如果压力从大气压降低到 100pa 左右，扩散将减少近 1000。质量输运速度的降低导致了更好的均匀性和同质性。典型温度为 600ºC