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等离子体处理(蚀刻、沉积)
文件夹: UESTC/格院大三上课程/微纳工艺课程/等离子体处理(蚀刻、沉积)
此文件夹下有48条笔记。
2025年2月23日
等离子体
2025年2月22日
ALD 工艺种类
2025年2月22日
ALD 的优点
2025年2月22日
原子层沉积
2025年2月22日
ALD和CVD的对比
2025年2月22日
APCVD
2025年2月22日
CVD 工艺种类
2025年2月22日
CVD工艺流程
2025年2月22日
CVD的保角特性
2025年2月22日
HSQ光刻胶
2025年2月22日
电感耦合等离子体化学气相沉积
2025年2月22日
IPA
2025年2月22日
LPCVD 对比 CVD
2025年2月22日
低压化学气相沉积
2025年2月22日
PE-ALD
2025年2月22日
PECVD 对比 CVD
关系
2025年2月22日
等离子增强气相沉积
2025年2月22日
Thermal ALD
2025年2月22日
刻蚀
2025年2月22日
刻蚀面临的问题
2025年2月22日
化学刻蚀
2025年2月22日
化学气相沉积
2025年2月22日
反应离子蚀刻
2025年2月22日
各向同性
2025年2月22日
各向异性
2025年2月22日
后刻蚀抗蚀剂剥离
2025年2月22日
常用湿蚀刻剂
2025年2月22日
干法刻蚀-化学处理
2025年2月22日
干法刻蚀-物理轰击
2025年2月22日
干法刻蚀的样品准备
2025年2月22日
干法刻蚀的检查
2025年2月22日
干法蚀刻
2025年2月22日
平均自由程
2025年2月22日
折射率
2025年2月22日
掩膜侵蚀
2025年2月22日
湿法刻蚀方法
2025年2月22日
湿法刻蚀的流程
2025年2月22日
湿法刻蚀面临的问题
2025年2月22日
湿法蚀刻
2025年2月22日
湿法蚀刻缓冲剂
2025年2月22日
电感耦合等离子体
实体
2025年2月22日
电感耦合等离子体反应离子刻蚀
2025年2月22日
电感耦合等离子体离子反应蚀刻
2025年2月22日
离子强化的化学刻蚀
2025年2月22日
等离子体制造方法
2025年2月22日
终点检测
2025年2月22日
薄膜应力
2025年2月22日
选择性计算式