Resolution - 分辨率
分辨率是指可以在样品表面上以高度精细的方式定义最小特征的能力。在E-beam lithography中，分辨率通常取决于电子束的能量和焦距，以及E-beam resist的性质。
Alignment accuracy - 对齐精度
对齐精度是指将一个掩膜对准另一个掩膜的能力。在E-beam lithography中，对齐精度对于在不同的掩膜上绘制多个图案是至关重要的。它通常取决于工具的硬件能力以及对齐算法的优化。
Throughput - 吞吐量
吞吐量是指 E-beam lithography 系统可以每小时处理多少个晶圆。这个数字通常取决于电子束曝光的速率，即每秒钟可以在晶圆上曝光多少像素。其他因素也会影响吞吐量，例如装载/卸载晶圆的时间，对每个晶圆进行的校准时间以及系统中的任何其他延迟。