电子束曝光技术对比光刻技术

电子束光刻	光刻
低速	高速
点对点曝光	平行曝光
没有衍射极限	有衍射极限
更昂贵	更便宜
更好的分辨率
提供更好的层间对准
更灵活 (不需要掩模)	需要掩模
有更好的聚焦深度
光刻胶通常具有较好的耐蚀性
串行工作	并行工作