电子束曝光偏置

当刻蚀一个狭窄的线条时，其宽度实际上会比设计宽度略大，这被称为偏置（通常用 b 表示）。

偏置量通常为约2.5 nm，但取决于加工条件（例如使用的抗蚀剂、显影剂、束流电流等）。