模板块状断裂是一种制造微纳米结构的加工技术,可将大型图案,例如掩模板切割成块状。默认块大小为1200 x 1200微米,以实现1.25纳米的分辨率。可以调整块大小以避免像门等关键特征落在场边界上的情况。块大小越小,阶段移动时间越长,加工所需时间越长。该技术具有高精度、高可重复性和高产率等优点,可用于制造微型光学元件、微流控芯片、纳米电子器件、生物芯片等领域。