基准剂量

基准剂量是指在没有衬底的情况下清除抗蚀剂的电子束剂量。

基准剂量通常是指清除一个孤立的 1 微米正方形所需的剂量。这样的形状比反散射半径要小得多，但比纳米尺度要大。

基准剂量不受衬底类型的影响，但取决于具体的工艺过程。因此，在计算所需剂量时，需要考虑衬底类型和工艺参数的影响，以确定所需的最佳剂量。