接近式光刻机

接近式光刻机指的是一类掩膜板与光刻胶层的略微分开，大约为 2-20μm 的光刻机。可以避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤。但是同时引入了衍射效应，降低了分辨率。掩膜板分开的距离越大，衍射效应越强，分辨率降低.

优缺点

• 优点：
  • 不与光刻胶接触，避免了污染
• 缺点：
  • 由于衍射，导致了分辨率的降低，离得越远，分辨率越低。