AR 300-80 new
AR 300-80 new 的增附原理
在衬底（如 SiO2 或 SiN）上旋涂 AR 300-80 new（4000rpm）并在 60℃（热板 2min；烘箱 25min）条件下前烘，可获得 15nm 厚的二苯基二羟基硅烷（Diphenylsilanediol）薄膜。衬底上原来的官能团（SiO2 的 -OH 或 SiN 的 -N）将会被很薄的一层二苯基二羟基硅烷（Diphenylsilanediol）链接层取代。当旋涂光刻胶时，这层很薄的二苯基二羟基硅烷（Diphenylsilanediol） 将迅速溶解于光刻胶的溶剂中，溶解于光刻胶中的二苯基二羟基硅烷（Diphenylsilanediol）对后续的曝光和显影过程不会产生影响。当然也可使用有机溶剂（如，丙酮、乙醇、苯甲醚……）将其去除，但其疏水性官能团依然保留在衬底表面。
附录
笔记来源