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图形化工艺
文件夹: UESTC/格院大三上课程/微纳工艺课程/图形化工艺
此文件夹下有52条笔记。
2025年2月22日
AR 300-80
2025年2月22日
DOF 公式
2025年2月22日
KLayout
2025年2月22日
Thermal run-in(out) error
2025年2月22日
光刻分辨率
2025年2月22日
光刻技术
2025年2月22日
光刻掩模
实体
2025年2月22日
光刻掩模类型
2025年2月22日
光刻机
2025年2月22日
光刻的工艺过程.excalidraw
excalidraw
2025年2月22日
光刻胶
2025年2月22日
光刻胶旋涂曲线
2025年2月22日
光刻设备类型
2025年2月22日
前烘
2025年2月22日
前烘工具
2025年2月22日
前烘的好处
2025年2月22日
前烘的温度时间控制
2025年2月22日
图形检测
2025年2月22日
坚膜
2025年2月22日
增附处理
工艺
2025年2月22日
夫琅禾费衍射
2025年2月22日
夫琅禾费衍射第一暗条纹
2025年2月22日
对准
2025年2月22日
对准方式
2025年2月22日
对准误差
2025年2月22日
对准误差的产生原因
2025年2月22日
干涉条纹相对于狭缝的张角
2025年2月22日
投影式光刻机
2025年2月22日
投影式光刻机最小线宽计算式
2025年2月22日
接触式光刻机
2025年2月22日
接近式光刻机
2025年2月22日
掩膜设计（CAD）
2025年2月22日
数值孔径
2025年2月22日
数值孔径定义公式
2025年2月22日
旋涂方法
2025年2月22日
旋涂流程
2025年2月22日
旋转涂胶
2025年2月22日
显影
2025年2月22日
显影方式
2025年2月22日
曝光
2025年2月22日
曝光方式
2025年2月22日
正性光刻胶与负性光刻胶比较
2025年2月22日
涂胶
2025年2月22日
烘箱
2025年2月22日
热板
2025年2月22日
瑞利判据 单缝绕射
2025年2月22日
瑞利判据 圆孔绕射
2025年2月22日
瑞利判据
2025年2月22日
电子束抗蚀剂
2025年2月22日
薄膜电阻
2025年2月22日
衬底清洗
2025年2月22日
衬底预处理