LOR（Lift-off resist）是基于聚二甲基戊二酰亚胺（PMGI）而非光敏聚合物的一种材料，因此 LOR 不是一种成像光刻胶。LOR 常常和正性光刻胶结合使用，用于制造凹槽状的剖面以便于去除导电材料。这种组合通常被称为“二层光刻胶结构”，用于创造凹槽状的剖面。
LOR（Lift-off resist）是基于聚二甲基戊二酰亚胺（PMGI）而非光敏聚合物的一种材料，因此 LOR 不是一种成像光刻胶。LOR 常常和正性光刻胶结合使用，用于制造凹槽状的剖面以便于去除导电材料。这种组合通常被称为“二层光刻胶结构”，用于创造凹槽状的剖面。