热原子层沉积是一种原子层沉积技术，可以实现高宽比和复杂结构的均匀涂层。
用 ALD 可以实现多种材料的沉积，包括氧化物（如 Al2O3、HfO2、SiO2、TiO2、SrTiO3、Ta2O5、Gd2O3、ZrO2、Ga2O3、V2O5）、氟化物（如 MgF2、AlF3）、有机-无机杂化材料（如 Alucone）、氮化物（如 TiN、TaN、Si3N4、AlN、GaN、WN、HfN、NbN、GdN、ZrN）、金属（如 Pt、Ru、Pd、Ni、W）和硫化物（如 ZnS、MoS2）。
热原子层沉积是一种原子层沉积技术，可以实现高宽比和复杂结构的均匀涂层。
用 ALD 可以实现多种材料的沉积，包括氧化物（如 Al2O3、HfO2、SiO2、TiO2、SrTiO3、Ta2O5、Gd2O3、ZrO2、Ga2O3、V2O5）、氟化物（如 MgF2、AlF3）、有机-无机杂化材料（如 Alucone）、氮化物（如 TiN、TaN、Si3N4、AlN、GaN、WN、HfN、NbN、GdN、ZrN）、金属（如 Pt、Ru、Pd、Ni、W）和硫化物（如 ZnS、MoS2）。