等离子增强化学气相沉积（PEALD）可选择更广泛的前驱体化学品，具有增强的薄膜质量： 等离子体实现低温ALD过程，远程源维持低等离子体损伤 消除了水作为前体的需要，降低了低温ALD循环之间的净化时间 通过改善杂质的去除而获得更高质量的薄膜，导致更低的电阻率、更高的密度等等 通过使用氢等离子体实现有效的金属化学 能够控制化学计量/相位 减少了成核延迟 等离子表面处理 对于某些材料，可以进行等离子体清洁真空室