HSQ光刻胶

HSQ 光刻胶是一种高温硅氧烷（High Temperature Siloxane）光刻胶，其全称是 Hydrogen Silsesquioxane。HSQ 光刻胶具有高分辨率、高干膜厚度稳定性和优异的干燥性能等特点，因此在微纳加工领域得到广泛应用。

HSQ光刻胶不能通过灰化的方式去除，因为HSQ光刻胶的分子结构中存在大量的Si-OH键和Si-H键，这些键会在灰化过程中反应，形成气体，从而导致HSQ光刻胶样品的失真或破裂。因此，HSQ光刻胶样品通常需要通过氧气等化学物质进行湿法去除。