涂胶
涂胶工艺
光刻胶主要通过旋涂的方式进行涂布的。还有一些不常见涂胶工艺，如下：
- 浸涂：适用于大型或者不规则形状的衬底
- 喷涂：与旋涂结合，以节约光刻胶，也适用于衬底表面有深沟槽结构或者衬底形状不规则的情况
- 辊涂：大幅面衬底，如防伪、印刷行业
旋涂流程
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注意事项
涂胶前衬底需要冷却至室温，光刻胶也需在室温下开盖使用（冰箱中刚取出 的过冷光刻胶会冷凝空气中的水汽）；
光刻胶中的气泡需通过静置的方式使气泡逸出后使用，用滴管等取光刻胶时动作要轻缓，避免带入气泡；
随着光刻胶的频繁开盖，溶剂挥发，光刻胶的厚度会相应的增加；
多次旋涂可以获得较厚的膜层，但涂新胶层前需要对已涂好的光刻胶层进行烘烤并冷却，多次旋涂的均匀性会变差。
涂胶均匀性影响因素
- 衬底的洁净程度和粗糙度以及疏水性质；
- 旋涂过程中由低速到高速阶段的加速度；
- 高速阶段前光刻胶的覆盖情况；
- 旋涂时间，一般厚胶需要较长的时间，薄胶旋涂时间过长反而对均匀性不利；
影响光刻胶厚度的因素
- 光刻胶的种类
- 光刻胶的粘度
- 真空吸盘的旋转速度
附录
笔记来源