前烘温度过低或者时间过短，则会导致光刻胶中有溶剂残留，这些残留的溶剂会在后续的曝光环节中挥发出来导致图形质量不高、图形轮廓形态不清晰（圆角）甚至是暗腐蚀过于严重。当然，如果由于衬底无法承受过高的温度，可以选择在适当低而定烘烤温度（<60℃）下进行，但烘烤时间需要适当延长。以保证溶剂烘干。
前烘温度过高，或者时间太长也是不适合的，因为光敏物质可能在前烘过程中被破坏，导致光刻胶的灵敏度下降，曝光剂量增加。
前烘后，需要等到光刻胶冷却至室温下才能进行下一步工艺，特别是厚胶，光刻胶需要等待一段时间来进行再吸水，从而达到更优的性能。