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Part 1 光刻基础概念
文件夹: NTU/2025-春季课程/EE6601-先进晶圆加工/Part-1-光刻基础概念
此文件夹下有23条笔记。
2025年4月21日
《Part 1 光刻基础概念》笔记
2025年4月21日
夫琅和费衍射
2025年4月21日
菲涅尔衍射
2025年4月20日
渐进式光刻机最小线宽计算式
2025年2月23日
平行板 RIE 系统等离子势能计算式
2025年2月23日
气体在泵气腔室内的平均停留时间计算式
2025年2月23日
气体符合计算式
2025年2月23日
腔室稳态气压计算式
2025年2月22日
刻蚀速率计算式
2025年2月22日
各向异性程度计算式
2025年2月22日
高次谐波生成
2025年2月18日
临近效应
2025年1月20日
CMTF 定义式
2025年1月20日
光刻胶对比度定义式
2025年1月20日
光刻胶旋涂曲线计算式
2025年1月20日
关键光刻胶调制转移函数
2025年1月20日
图样调制参数定义式
2025年1月20日
调制传递函数
2025年1月20日
调制传递函数定义式
2025年1月16日
HDMS
2025年1月16日
准分子激光
2025年1月16日
景深计算式
2025年1月16日
汞弧灯